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射流分散機(jī)在氣相二氧化硅分散制備上的應(yīng)用

瀏覽次數(shù):1613 發(fā)布日期:2021-12-10  來(lái)源:官網(wǎng)

實(shí)驗(yàn)對(duì)象

灰色氣相二氧化硅液體(在白色二氧化硅里加入了其它成份),有一定的黏度。

 

實(shí)驗(yàn)儀器

ATS高壓均質(zhì)機(jī)

ATS射流分散機(jī)

激光粒度儀

 

實(shí)驗(yàn)背景

氣相二氧化硅是通過(guò)鹵硅烷在氫氧焰中高溫水解縮合而得到的一種超細(xì)粉體材料。其粒徑很小,因此比表面積大,達(dá)到100~400m2/g,表面吸附力強(qiáng),表面能大;化學(xué)純度高,SiO2含量不小于99.8%;分散性能好,分散后,可以形成“近乎完美”的納米粒子三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),使得它具有優(yōu)異的補(bǔ)強(qiáng)、增稠、觸變、防沉降、防流掛等性能。

 

實(shí)驗(yàn)難點(diǎn)

1、氣相二氧化硅質(zhì)地硬,極易磨閥座閥芯,ATS使用金剛石閥座閥芯,抗磨。

2、氣相二氧化硅有一定黏度,不易進(jìn)料,ATS使用特殊進(jìn)料模塊輔助進(jìn)料,進(jìn)料方便。

3、氣相二氧化硅分散目標(biāo)高,D50要達(dá)到100-200nm,ATS使用射流+均質(zhì)分散模塊,效果更快更好。

 

實(shí)驗(yàn)?zāi)康?/STRONG>

分散后得到穩(wěn)定的分散體系,且D50小于200nm

 

實(shí)驗(yàn)工藝

1、ATS高壓均質(zhì)機(jī),采用一級(jí)均質(zhì),控低溫處理;

2、ATS射流分散機(jī),采用一級(jí)均質(zhì),控低溫處理;

實(shí)驗(yàn)結(jié)果

1、現(xiàn)象

ATS射流分散機(jī)處理后不掛壁,流動(dòng)性良好。高壓均質(zhì)機(jī)均質(zhì)后流動(dòng)表現(xiàn)弱于射流分散機(jī)。


 

射流分散機(jī)處理后


高壓均質(zhì)機(jī)處理后

 

2、粒徑測(cè)量

氣化二氧化硅初始粒徑 、均質(zhì)機(jī)和分散機(jī)處理2次后的粒徑

氣化二氧化硅初始粒徑 、均質(zhì)機(jī)和分散機(jī)處理6次后的粒徑

 

實(shí)驗(yàn)小結(jié)

一般的商品氣相二氧化硅經(jīng)機(jī)械力只能破壞彼此結(jié)合的范德華力,分散后的粒徑在100-300nm之間。ATS射流分散機(jī)能得到穩(wěn)定的分散體系,效果更好,粒徑更小,更值得推薦。

 

應(yīng)用領(lǐng)域

氣相二氧化硅廣泛用于各行業(yè),作為添加劑、催化劑載體,應(yīng)用于石油化工,脫色劑,消光劑,橡膠補(bǔ)強(qiáng)劑,塑料充填劑,油墨增稠劑,金屬軟性磨光劑,絕緣絕熱填充劑,高級(jí)日用化妝品填料及噴涂材料、醫(yī)藥、環(huán)保等各種領(lǐng)域。并為相關(guān)工業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展提供了新材料基礎(chǔ)和技術(shù)保證。

發(fā)布者:安拓思納米技術(shù)(蘇州)有限公司
聯(lián)系電話:400-998-7088
E-mail:chenglin@duoningbio.com

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