TMDs 展現(xiàn)出奇特的光物理特性,包括強(qiáng)烈的激子效應(yīng)、與層數(shù)相關(guān)的能帶結(jié)構(gòu)以及自旋 - 谷耦合,這些特性使其在光電子、谷電子學(xué)和量子光子學(xué)研究領(lǐng)域具有高度相關(guān)性。
為了充分理解這些原子級(jí)薄材料中激子、三離子和缺陷的行為,精確的時(shí)間分辨光譜表征至關(guān)重要。
用于 TMD 研究的工具和系統(tǒng)
以下是我們的系統(tǒng)在典型 TMD 研究應(yīng)用中的不同配置情況:
-MicroTime 100(BXFM機(jī)身) > 用于空間分辨的 TRPL 和 FLIM(時(shí)間分辨光致發(fā)光和熒光壽命成像)
- MicroTime 100 (BXFM 機(jī)身) > 用于單點(diǎn)壽命測(cè)量
- MicroTime 100 (BXFM 機(jī)身) > 用于薄膜表征
- MicroTime 100 (BXFM 機(jī)身) + FluoTime 300 > 用于對(duì)局部特征或薄片進(jìn)行微區(qū)光致發(fā)光(Micro-PL)分析
使用共聚焦 TRPL 和激子擴(kuò)散評(píng)估 TMDs 的化學(xué)處理
Zhaojun Li 及其同事致力于基于半導(dǎo)體過(guò)渡金屬二硫化物(TMDs)的二維材料,以制造高性能光電子器件。某些化學(xué)處理方法比其他方法更能提高這些材料的光致發(fā)光(PL)產(chǎn)率,但至今原因不明。
為揭示經(jīng) H-TFSI 處理過(guò)的單層 MoS2樣品和 Li-TFSI 處理過(guò)的單層 MoS2樣品的光致發(fā)光增強(qiáng)機(jī)制,研究小組使用配備 405 nm 脈沖激光器的時(shí)間分辨共聚焦顯微鏡等技術(shù)進(jìn)行了共聚焦 TRPL 實(shí)驗(yàn)。
他們觀察到,隨著 PL 強(qiáng)度增加,壽命縮短,表明化學(xué)處理后輻射復(fù)合速率提高。經(jīng) Li-TFSI 和 H-TFSI 處理后,衰減動(dòng)力學(xué)差異顯著。
此外,通過(guò)激發(fā)中心點(diǎn)然后對(duì)周?chē)鷧^(qū)域成像,利用共聚焦 TRPL 可觀察到激子傳輸情況。從歸一化 PL 強(qiáng)度空間 profile 在數(shù)納秒內(nèi)的展寬,可得到激子擴(kuò)散系數(shù)。結(jié)果表明,激子在經(jīng) Li-TFSI 處理的樣品中傳輸效率更高。
如需進(jìn)一步了解,請(qǐng)參閱《Nature Communications 》(2021 年)論文:《Mechanistic insight into the chemical treatments of monolayer transition metal disulfides for photoluminescence enhancement》。
對(duì) TMD 單層進(jìn)行 SHG、TRPL 和 TPE-TRPL 成像
過(guò)渡金屬二硫族化合物(TMDs)的二維單層具有有趣的電光特性,適用于各種應(yīng)用,例如用于可穿戴電子設(shè)備的柔性電極。
在此,通過(guò)單一顯微鏡——MicroTime 100 時(shí)間分辨共聚焦顯微鏡,采用幾種互補(bǔ)技術(shù),即反射成像、二次諧波(SHG)成像、時(shí)間分辨光致發(fā)光(TRPL)成像以及雙光子激發(fā)(TPE)成像,對(duì)位于聚二甲基硅氧烷(PDMS)上的二維單層二硫化鉬(MoS₂)和二硒化鎢(WSe₂)進(jìn)行了成像。借助這些技術(shù),能夠?qū)Σ牧系墓鈱W(xué)特性進(jìn)行局部表征,從而獲得全面的理解。
MicroTime 100 配備了 640 nm 脈沖激光器(LDH-P-C-640B)用于 TRPL 成像,配備 1064 nm 脈沖激光器(VisIR 1064)用于 SHG 成像以及雙光子激發(fā) TRPL 成像,此外還配有用于反射成像的相機(jī)。
感謝加州大學(xué)歐文分校的 Jin Myung Kim 提供樣品。
如果您在顯微鏡實(shí)驗(yàn)室工作,緊湊型正置熒光顯微鏡 MicroTime 100 通常是用于對(duì)單層、薄片或異質(zhì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行空間和時(shí)間分辨研究的最全面工具。更多有關(guān)緊湊型正置熒光顯微鏡 MicroTime 100 的信息,請(qǐng)咨詢我們銷(xiāo)售團(tuán)隊(duì)。