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OLS5100 3D測(cè)量激光顯微鏡以納米精度賦能半導(dǎo)體光刻制程革新

瀏覽次數(shù)：261　發(fā)布日期：2025-6-10　 來(lái)源：本站　僅供參考，謝絕轉(zhuǎn)載，否則責(zé)任自負(fù)
奧偉登（Evident）LEXT OLS5100 3D測(cè)量激光顯微鏡重磅賦能半導(dǎo)體光刻領(lǐng)域！融合納米級(jí)測(cè)量精度與智能自動(dòng)化技術(shù)，突破散射光干擾與微小結(jié)構(gòu)檢測(cè)瓶頸，為光刻膠厚度控制、蝕刻圖案驗(yàn)證及缺陷分析提供全流程解決方案，助力先進(jìn)制程良率躍升與工藝創(chuàng)新。
 

 
發(fā)布者：儀景通光學(xué)科技（上海）有限公司
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標(biāo)簽： 3D測(cè)量 激光顯微鏡
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